Optical proximity correction
{{Modul:Vorlage:lang}} Modul:Multilingual:153: attempt to index field 'data' (a nil value) (OPC, englisch, deutsch etwa: optische Nahbereichskorrektur) ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur Korrektur bzw. Verringerung von Abbildungsfehlern von Strukturen bei fotolithografischen Prozessen. Es gehört zur Gruppe der Auflösungsverbesserungsverfahren (engl.: {{Modul:Vorlage:lang}} Modul:Multilingual:153: attempt to index field 'data' (a nil value), RET), welche bei Strukturgrößen unterhalb der Lichtwellenlänge (193 nm) zum Einsatz kommen.
Beschreibung
Bei der fotolithografischen Abbildung einer Struktur mit Dimensionen im Bereich innerhalb und unterhalb der verwendeten Wellenlänge, wie sie seit einigen Jahren in der Mikroelektronik der Fall ist, entstehen insbesondere durch wellenoptische Effekte (z. B. Beugung) Abbildungsfehler. Die OPC versucht diese Effekte, wie Linienendenverkürzung, Kantenverrundungen oder Verbreiterung benachbarter Linien, durch zusätzliche Strukturen auf der Fotomaske zu kompensieren. Zu diesen Korrekturstrukturen, die auch mehrstufig verwendet werden, gehören:
- verlängerte Linienenden (engl.: {{Modul:Vorlage:lang}} Modul:Multilingual:153: attempt to index field 'data' (a nil value)), um Linienverkürzungen zu korrigieren
- teilweise verbreitete Linien (engl.: {{Modul:Vorlage:lang}} Modul:Multilingual:153: attempt to index field 'data' (a nil value)) zur Breitenkorrektur
- zusätzliche Linien an der Seite (engl.: {{Modul:Vorlage:lang}} Modul:Multilingual:153: attempt to index field 'data' (a nil value)) zur Breitenkorrektur
- T-förmige Strukturen an den Linienenden (engl.: {{Modul:Vorlage:lang}} Modul:Multilingual:153: attempt to index field 'data' (a nil value)), um Kantenverrundungen zu korrigieren
- zusätzliche oder fehlende rechteckige/quadratische Bereiche (engl.: {{Modul:Vorlage:lang}} Modul:Multilingual:153: attempt to index field 'data' (a nil value)), um Kantenverrundungen zu korrigieren
- zusätzlichen Bereiche an den konvexen Ecken
- negative (fehlende) Bereiche an konkaven Ecken
Literatur
- Chris Mack: Fundamental principles of optical lithography. Wiley-Interscience, 2008, ISBN 978-0-470-01893-4, S. 419 ff. (eingeschränkte Vorschau in der Google-BuchsucheSkriptfehler: Ein solches Modul „Vorlage:GoogleBook“ ist nicht vorhanden.).
Weblinks
- Rolf Froböse: RET- und OPC-Masken. In: Scharfe Sache: Maskentechnologie. tecChannel, 23. Februar 2004, S. 4, abgerufen am 10. Januar 2010 (Bild einer DRAM-Struktur in unterschiedlichen Stufen der Herstellung).