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	<title>Reinraum - Versionsgeschichte</title>
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	<updated>2026-06-07T08:08:32Z</updated>
	<subtitle>Versionsgeschichte dieser Seite in Wikipedia (Deutsch) – Lokale Kopie</subtitle>
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		<id>https://wiki-de.moshellshocker.dns64.de/index.php?title=Reinraum&amp;diff=43137&amp;oldid=prev</id>
		<title>imported&gt;Georg Hügler: /* Literatur */</title>
		<link rel="alternate" type="text/html" href="https://wiki-de.moshellshocker.dns64.de/index.php?title=Reinraum&amp;diff=43137&amp;oldid=prev"/>
		<updated>2024-07-30T04:18:27Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;&lt;span class=&quot;autocomment&quot;&gt;Literatur&lt;/span&gt;&lt;/p&gt;
&lt;p&gt;&lt;b&gt;Neue Seite&lt;/b&gt;&lt;/p&gt;&lt;div&gt;{{Begriffsklärungshinweis|Für das Kunst- und Kulturzentrum in Düsseldorf siehe [[Reinraum (Verein)]].}}&lt;br /&gt;
[[Datei:Clean room.jpg|mini|Ein Reinraum für die Produktion von [[Mikrosystemtechnik|Mikrosystemen]]. Die gelbe Beleuchtung verhindert die ungewollte Belichtung von [[Fotolack]]en für die [[Fotolithografie (Halbleitertechnik)|Fotolithografie]].]]&lt;br /&gt;
[[Datei:Cleanroom1.jpg|mini|Reinraum im Bau für die [[Mikroelektronik]]produktion vor der Installation der Fertigungsgeräte. Die Reinraum-Rasterdecke mit Filter-Ventilatoreinheiten überspannt hier ca. 6.000 Quadratmeter und erzeugt eine Reinraumklasse von ca. ISO 3.]]&lt;br /&gt;
[[Datei:Cleanroom entrance.jpg|mini|Eingangsbereich eines Reinraums]]&lt;br /&gt;
[[Datei:Cleanroom-Cabin.JPG|mini|Reinraumkabine für die Präzisionsmesstechnik]]&lt;br /&gt;
Ein &amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;Rein-&amp;#039;&amp;#039;&amp;#039; oder &amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;Reinstraum&amp;#039;&amp;#039;&amp;#039; ist ein Raum, in dem die Konzentration [[Aerosol|luftgetragener Teilchen]] sehr gering gehalten wird.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Rein- und Reinsträume werden für spezielle Fertigungsverfahren –&amp;amp;nbsp;vor allem in der [[Halbleitertechnologie|Halbleiterfertigung]]&amp;amp;nbsp;– benötigt, wo in gewöhnlicher Umgebungsluft befindliche Partikel die Strukturierung [[integrierter Schaltkreis]]e im Bereich von Bruchteilen eines [[Mikrometer (Einheit)|Mikrometers]] stören würden. Weitere Anwendungen von Reinräumen oder &amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;Reinraumtechnik&amp;#039;&amp;#039;&amp;#039; finden sich in der Optik- und [[Laser]]technologie, der Luft- und Raumfahrttechnik, den [[Biowissenschaften]] und der medizinischen Forschung und Behandlung, der Forschung und keimfreien Produktion von Lebensmitteln und Arzneimitteln und in der [[Nanotechnologie]].&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Geschichte ==&lt;br /&gt;
Vermutlich hatte die [[Medizin]] zuerst die Notwendigkeit einer kontrollierten Umgebung erkannt und den klassischen [[Operationssaal]] in Krankenhäusern entwickelt und sich dabei auch offensichtlich am [[Schwarz-Weiß-Prinzip]] orientiert.&lt;br /&gt;
Früher gab es branchentypisch angepasste und regional unterschiedliche Forderungen und [[Standard]]s für Reinräume, die mittlerweile von der einheitlichen Norm [[EN ISO 14644]] abgelöst wurden.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Funktionsweise ==&lt;br /&gt;
Ein Reinraum wird so konstruiert, dass die Anzahl luftgetragener Teilchen, die in den Raum eingebracht werden oder dort entstehen, so gering wie möglich ist. Je nach Verwendung wird nur die Partikelanzahl oder auch die [[Anzahl]] der [[Mikroorganismen|Keime]] überwacht, wie dies beispielsweise bei der Herstellung [[Pharmazie|pharmazeutischer Produkte]] nötig ist. Andere Parameter wie [[Temperatur]], [[Luftfeuchtigkeit]] und [[Druck (Physik)|Druck]] werden in der Regel ebenfalls konstant gehalten, um jederzeit vergleichbare Bedingungen zu schaffen.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Um die geforderten Bedingungen herzustellen, werden diverse Verfahren angewendet, um zu verhindern, dass unerwünschte Partikel in die Luft gelangen können und um bereits in der Luft befindliche Partikel wieder zu entfernen.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Da in der Regel der Mensch die größte Quelle für Partikel und andere Verschmutzungen ist, helfen eine angepasste Arbeitskleidung, spezielle Arbeitsmittel und Werkzeuge, sowie die entsprechende Arbeitstechnik, die spezifizierte [[#Reinraumklassen|Reinraumklasse]] einzuhalten. So gibt es beispielsweise spezielles fusselfreies Reinraumpapier, [[Reinraumkleidung]], Kopfhauben und Überzieher für die Schuhe.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Für Reinsträume, wie sie in der Mikroelektronik Verwendung finden, gibt es mehrere hierarchische Bereiche mit entsprechender Reinraumklasse. So umgibt den Reinstraum (Klasse ISO 4 und besser), in dem mit Substraten gearbeitet wird, ein abgetrennter Bereich mit den benötigten Anlagen zur Beschichtung und Strukturierung. Benötigte Pumpen für die [[Vakuumtechnik]] befinden sich meist in einem darunterliegenden Stockwerk.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Der Reinstraumzugang erfolgt meist über eine Folge verschiedener Reinraumbereiche mit fallender Reinraumklasse. Zwischen diesen Bereichen erfolgt in der Regel ein Kleidungswechsel. Um Verschmutzungen von Gegenständen, die mit dem Fußboden in Berührung kommen (z.&amp;amp;nbsp;B. Schuhsohlen), zu minimieren, befinden sich an den jeweiligen Zugängen spezielle klebrige Fußmatten. Der Zugang zum Reinstraum selbst erfolgt zusätzlich über Personal- und Materialschleusen, in denen wiederum starke Luftströmungen und Filtersysteme vorhandene Partikel aufwirbeln und absaugen, so dass keine zusätzliche Verunreinigung von außerhalb eingetragen wird.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
In einigen Reinräumen wie Operationssälen müssen sich die Mitarbeiter und Besucher vorher einer Reinigung unterziehen oder zumindest Schutzkleidung anlegen.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Materialien, die in Reinräumen eingesetzt werden, müssen über abriebfeste Oberflächen verfügen. Aufgestellte Anlagen und Geräte dürfen die laminare Luftströmung nur minimal stören. Teile und Maschinen, die in den Reinraum gebracht werden sollen, müssen vorher gereinigt werden. Ein Reinraum wird im Regelfall mit Überdruck ([[Überdruckbelüftung]]) beaufschlagt. In Sonderfällen werden Reinräume auch mit [[Unterdrucklüftung|Unterdruck]] betrieben, was verhindert, dass z.&amp;amp;nbsp;B. gefährliche Substanzen oder Krankheitserreger nach außen dringen können.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Auch sogenannte [[Laminare Strömung#Laminar Flow|Laminar-Flow-Einheiten]] können bedingt staub- und partikelarme Arbeitsplätze schaffen, in denen ein gereinigter, vertikaler oder horizontaler Luftstrom sowie Vorhänge dafür sorgen, dass die Partikelkonzentrationen in der Luft und damit die Partikelablagerungen auf dem Produkt reduziert werden.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Die verwendeten Verfahren und Anlagenarten der Klimatechnik sollen sicherstellen, dass Verunreinigungen sofort aus der Luft entfernt werden. Dazu wird eine turbulenzarme Verdrängungsströmung (Laminarströmung, engl. {{lang|en|&amp;#039;&amp;#039;laminar flow&amp;#039;&amp;#039;}}) genutzt. Zusammen mit einer in der Regel mehrstufigen Filterung und großem Luftdurchsatz soll die Reinheit der Luft sichergestellt werden.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Strömungsprinzipien für Reinräume ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
[[Datei:Cleanroom Garment2.JPG|mini|Typische Reinraum-Kopfbekleidung]]&lt;br /&gt;
[[Datei:Halfsuit for Contamination control.JPG|mini|&amp;#039;&amp;#039;Halbmann&amp;#039;&amp;#039; zur Erzeugung eines geschlossenen Reinraumbereiches mit Personenzugang]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Es wird grundsätzlich zwischen einer turbulenten Verdünnungsströmung und einer turbulenzarmen Verdrängungsströmung unterschieden:&lt;br /&gt;
* Bei der &amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;turbulenten Verdünnungs- oder Mischströmung&amp;#039;&amp;#039;&amp;#039; wird die gefilterte Reinluft turbulent (verwirbelnd) in den Reinraum eingeführt und erzeugt eine stetige Verdünnung der Partikelkonzentration. Die geforderte Reinraumklasse wird dann bei reinraumgerechtem Verhalten des Personals aufrechterhalten. Hier ist besonders darauf zu achten, dass Partikel erzeugende Objekte und Vorgänge im Reinraum minimiert werden.&lt;br /&gt;
* Bei der &amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;turbulenzarmen Verdrängungsströmung&amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;, die auch „[[Laminare Strömung#Laminar Flow|laminar flow]]“ genannt wird, strömt die Reinluft turbulenzarm und in der Regel vertikal abwärts in den Reinraum und bewirkt, dass die sensiblen Arbeitsbereiche und Maschinen möglichst gering kontaminiert werden. Die Luft entweicht dann auf der gegenüberliegenden Fläche, in der Regel durch den perforierten Doppelboden, aus dem Raum und wird zur wiederholten [[Filtration (Trennverfahren)|Filterung]] zum Umluftgerät zurückgeführt.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
{| class=&amp;quot;centered&amp;quot;&lt;br /&gt;
|- style=&amp;quot;vertical-align:top&amp;quot;&lt;br /&gt;
|[[Datei:Turbulenter Reinraum.png|mini|ohne|Strömungsprinzip „turbulenter Reinraum“]]&lt;br /&gt;
|[[Datei:Laminar Flow Reinraum.png|mini|ohne|Strömungsprinzip „Laminarströmungs-Reinraum“]]&lt;br /&gt;
|}&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
{{Anker|Reinraumklassen}}&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Reinraumklassen mit Werten der Partikelkonzentration ==&lt;br /&gt;
[[Datei:Cleanroomiso.png|mini|Abhängigkeit der zulässigen Teilchenkonzentration von der Teilchengröße für verschiedene Reinraumklassen. Gr. Ziffern: ISO, kl. Ziffern: STD209]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Um einen Reinraum betreiben zu können, müssen nach dem Bau und während des Betriebs [[Partikelmessung]]en durchgeführt werden. Aufgrund dieser Messungen kann eine Klassifizierung der Reinheit des Raumes nach einer Norm vollzogen werden. Beispielsweise dürfen bei Klasse ISO 5 (&amp;#039;&amp;#039;US alt&amp;#039;&amp;#039;: Klasse 100) max. 100 Partikel von min. 0,5&amp;amp;nbsp;µm Durchmesser pro Kubikfuß (3,5 Partikel pro Liter&amp;lt;!-- = 3500 Partikel/m³--&amp;gt;) enthalten sein.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
{| class=&amp;quot;wikitable centered&amp;quot;&lt;br /&gt;
|+Branchenabhängige Reinraumdefinitionen&amp;lt;ref&amp;gt;{{Internetquelle |autor= |url=http://www.reinraumzelt.de/grundlagen-reinraum/ |titel=Definition &amp;amp; Grundlagen Reinraum |werk= |hrsg= |datum= |abruf=2016-04-08}}&amp;lt;/ref&amp;gt;&lt;br /&gt;
|- class=&amp;quot;hintergrundfarbe6&amp;quot;&lt;br /&gt;
!Branche&lt;br /&gt;
!Hauptkontamination&lt;br /&gt;
!Hauptnorm&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
|Halbleitertechnik&lt;br /&gt;
|Partikel&lt;br /&gt;
|US Federal Standard 209E, abgelöst durch [[EN ISO 14644|ISO 14644-1]] und [[EN ISO 14644|ISO 14644-2]]&amp;lt;ref name=&amp;quot;Cancellation&amp;quot;&amp;gt;{{Webarchiv |url=http://www.iest.org/i4a/pages/index.cfm?pageid=3480 |text=Notice of Cancellation der GSA vom 29. November 2001, wiedergegeben auf der IEST-Website |wayback=20110928161942}}, abgerufen am 23. Juni 2008.&amp;lt;/ref&amp;gt;&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
|europäische Raumfahrttechnik&lt;br /&gt;
|Partikel&lt;br /&gt;
|ECSS-Q-ST-70-01, auf Basis der [[EN ISO 14644|ISO 14644]]&amp;lt;ref name=&amp;quot;ECSS Standard 7001&amp;quot;&amp;gt;[http://esmat.esa.int/ecss-q-st-70-01c.pdf ECSS-Q-ST-70-01C der ESA], abgerufen am 4. Februar 2016.&amp;lt;/ref&amp;gt;&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
|Lebensmitteltechnik&lt;br /&gt;
|Mikroorganismen&lt;br /&gt;
|VDI 2083&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
|Pharmazie&lt;br /&gt;
|[[Keimzahl]] (KB)&lt;br /&gt;
|[[Gute Herstellungspraxis|EU-GMP]]-Leitfaden, Annex 1 Herstellung steriler Arzneimittel&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
|}&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
{| class=&amp;quot;centered&amp;quot;&lt;br /&gt;
|- style=&amp;quot;vertical-align:top&amp;quot;&lt;br /&gt;
|&lt;br /&gt;
{| class=&amp;quot;wikitable centered&amp;quot; style=&amp;quot;text-align:right&amp;quot;&lt;br /&gt;
|+ Reinheitsklassen nach ISO 14644-1&amp;lt;ref name=&amp;quot;bc-t&amp;quot; /&amp;gt;&amp;lt;ref name=&amp;quot;gmp&amp;quot;&amp;gt;{{Internetquelle |autor= Jürgen Blattner|hrsg= |url=https://www.gmp-verlag.de/media/files/leitartikel_2016/LOGFILE-06_ISO14644.pdf|archiv-url= https://web.archive.org/web/20170118225456/https://www.gmp-verlag.de/media/files/leitartikel_2016/LOGFILE-06_ISO14644.pdf|format=PDF |titel=Neuerungen in der DIN EN ISO 14644-1:2015|archiv-datum=2017-01-18 |kommentar=Änderungen mit der neuen Version vom Dezember 2015 |datum= |zugriff=2017-01-18}}&amp;lt;/ref&amp;gt;&lt;br /&gt;
|- class=&amp;quot;hintergrundfarbe6&amp;quot; style=&amp;quot;text-align:center&amp;quot;&lt;br /&gt;
! &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
! colspan=&amp;quot;6&amp;quot;| Partikel je m³&lt;br /&gt;
|- class=&amp;quot;hintergrundfarbe6&amp;quot; style=&amp;quot;text-align:center&amp;quot;&lt;br /&gt;
! Klasse&lt;br /&gt;
! ≥&amp;amp;nbsp;0,1&amp;amp;nbsp;µm&lt;br /&gt;
! ≥&amp;amp;nbsp;0,2&amp;amp;nbsp;µm&lt;br /&gt;
! ≥&amp;amp;nbsp;0,3&amp;amp;nbsp;µm&lt;br /&gt;
! ≥&amp;amp;nbsp;0,5&amp;amp;nbsp;µm&lt;br /&gt;
! ≥&amp;amp;nbsp;1,0&amp;amp;nbsp;µm&lt;br /&gt;
! ≥&amp;amp;nbsp;5,0&amp;amp;nbsp;µm&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;ISO 1&amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| 10&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&amp;lt;ref name=&amp;quot;gmp&amp;quot; /&amp;gt;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;ISO 2 &amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| 100&lt;br /&gt;
| 24&lt;br /&gt;
| 10&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&amp;lt;ref name=&amp;quot;gmp&amp;quot; /&amp;gt;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;ISO 3 &amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| 1.000&lt;br /&gt;
| 237&lt;br /&gt;
| 102&lt;br /&gt;
| 35&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&amp;lt;ref name=&amp;quot;gmp&amp;quot; /&amp;gt;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;ISO 4 &amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| 10.000&lt;br /&gt;
| 2.370&lt;br /&gt;
| 1.020&lt;br /&gt;
| 352&lt;br /&gt;
| 83&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;ISO 5 &amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| 100.000&lt;br /&gt;
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| 10.200&lt;br /&gt;
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| &amp;amp;nbsp;&amp;lt;ref name=&amp;quot;gmp&amp;quot; /&amp;gt;&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;ISO 6 &amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| 1.000.000&lt;br /&gt;
| 237.000&lt;br /&gt;
| 102.000&lt;br /&gt;
| 35.200&lt;br /&gt;
| 8.320&lt;br /&gt;
| 293&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;ISO 7 &amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| 352.000&lt;br /&gt;
| 83.200&lt;br /&gt;
| 2.930&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;ISO 8 &amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| 3.520.000&lt;br /&gt;
| 832.000&lt;br /&gt;
| 29.300&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;ISO 9 &amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| 35.200.000&lt;br /&gt;
| 8.320.000&lt;br /&gt;
| 293.000&lt;br /&gt;
|}&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
{| class=&amp;quot;wikitable centered&amp;quot; style=&amp;quot;text-align:right&amp;quot;&lt;br /&gt;
|+Reinheitsklassen nach GMP-Leitfaden Annex 1&amp;lt;ref name=&amp;quot;bc-t&amp;quot;&amp;gt;[https://www.bc-technology.de/reinraumservice/reinraumqualifizierung/reinraumklassen/ Klassifizierung der Reinheitsklasse nach GMP und EN ISO 14644-1 – Home]&amp;lt;/ref&amp;gt;&lt;br /&gt;
|- class=&amp;quot;hintergrundfarbe6&amp;quot; style=&amp;quot;text-align:center&amp;quot;&lt;br /&gt;
! &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
! colspan=&amp;quot;6&amp;quot;| Maximal erlaubte Partikelzahl pro m³&lt;br /&gt;
|- class=&amp;quot;hintergrundfarbe6&amp;quot; style=&amp;quot;text-align:right&amp;quot;&lt;br /&gt;
! Klasse !! Ruhezustand ≥&amp;amp;nbsp;0,5&amp;amp;nbsp;µm !! Ruhezustand ≥&amp;amp;nbsp;5&amp;amp;nbsp;µm !! Betriebszustand ≥&amp;amp;nbsp;0,5&amp;amp;nbsp;µm !! Betriebszustand ≥&amp;amp;nbsp;5&amp;amp;nbsp;µm&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| A || 3.520 || 20 || 3.520 || 20&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| B || 3.520 || 29 || 352.000 || 2.900&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| C || 352.000 || 2.900 || 3.520.000 || 29.000&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| D || 3.520.000 || 29.000 || nicht festgelegt || nicht festgelegt&lt;br /&gt;
|}&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
{| class=&amp;quot;wikitable centered&amp;quot; style=&amp;quot;text-align:right&amp;quot;&lt;br /&gt;
|+ Reinraumklassen nach US FED STD 209E&lt;br /&gt;
|- class=&amp;quot;hintergrundfarbe6&amp;quot; style=&amp;quot;text-align:center&amp;quot;&lt;br /&gt;
! &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
! colspan=&amp;quot;6&amp;quot;| Partikel je ft&amp;lt;sup&amp;gt;3&amp;lt;/sup&amp;gt;&lt;br /&gt;
|- class=&amp;quot;hintergrundfarbe6&amp;quot; style=&amp;quot;text-align:center&amp;quot;&lt;br /&gt;
! Klasse&lt;br /&gt;
! 0,1 µm&lt;br /&gt;
! 0,2 µm&lt;br /&gt;
! 0,3 µm&lt;br /&gt;
! 0,5 µm&lt;br /&gt;
! 5,0 µm&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
|  -&lt;br /&gt;
|&lt;br /&gt;
|&lt;br /&gt;
|&lt;br /&gt;
|&lt;br /&gt;
|&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
|  -&lt;br /&gt;
|&lt;br /&gt;
|&lt;br /&gt;
|&lt;br /&gt;
|&lt;br /&gt;
|&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;1&amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| 35&lt;br /&gt;
| 7&lt;br /&gt;
| 3&lt;br /&gt;
| 1&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;10&amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| 350&lt;br /&gt;
| 75&lt;br /&gt;
| 30&lt;br /&gt;
| 10&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;100&amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| 750&lt;br /&gt;
| 300&lt;br /&gt;
| 100&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;1.000&amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| 1.000&lt;br /&gt;
| 7&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;10.000&amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| 10.000&lt;br /&gt;
| 70&lt;br /&gt;
|-&lt;br /&gt;
| &amp;#039;&amp;#039;100.000&amp;#039;&amp;#039;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
| &amp;amp;nbsp;&lt;br /&gt;
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|- class=&amp;quot;hintergrundfarbe5&amp;quot; style=&amp;quot;text-align:left&amp;quot;&lt;br /&gt;
| colspan=&amp;quot;7&amp;quot; | &amp;#039;&amp;#039;Hinweis:&amp;#039;&amp;#039;&amp;lt;br /&amp;gt;US FED STD 209E ist seit dem 29. November 2001 nicht mehr gültig.&amp;lt;ref name=&amp;quot;Cancellation&amp;quot; /&amp;gt;&lt;br /&gt;
|}&lt;br /&gt;
|}&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Messvorschriften ==&lt;br /&gt;
Mit der Überarbeitung der Norm im Dezember 2015 wurden ebenfalls die Messvorschriften (Messbedingungen) überarbeitet:&amp;lt;ref name=&amp;quot;gmp&amp;quot; /&amp;gt;&lt;br /&gt;
# Die Bestimmung der Anzahl der Messpunkte pro Raum wurde neu definiert. Bisher als Wurzel aus der Fläche als Mindestanzahl von Messungen definiert wird in der neuen Version vom Dezember 2015 eine Mindestanzahl von Messpunkten je Fläche über eine Tabelle vorgegeben.&lt;br /&gt;
# Gleichzeitig fiel der statistische Vertrauensbereich weg; stattdessen soll jeder [[Messpunkt]] einzeln betrachtet werden: wenn der [[Mittelwert]] eines jeden Messpunktes unter den Grenzwerten liegt, so erfüllt der vermessene Raum die Anforderungen.&lt;br /&gt;
# Bei der Probenentnahme zur Reinheitsklassenbestimmung in A-Bereichen (GMP) muss die Schlauchlänge kürzer als einen Meter sein.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Siehe auch ==&lt;br /&gt;
* [[Gasreinigungssystem]]&lt;br /&gt;
* [[GIT ReinRaumTechnik und GIT SterilTechnik]]&lt;br /&gt;
* [[Planetary Protection]]&lt;br /&gt;
* [[Reinraumboden]]&lt;br /&gt;
* [[Reinraumstuhl]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Literatur ==&lt;br /&gt;
* [[Werner Sattel]], [[Hans-Jürgen Peiper]]: &amp;#039;&amp;#039;Reinraumtechnik – Anwendung in der Medizin.&amp;#039;&amp;#039; Springer-Verlag, Heidelberg 1977, ISBN 978-3-540-08409-9.&lt;br /&gt;
* Lothar Gail, Hans-Peter Hortig (Hrsg.): &amp;#039;&amp;#039;Reinraumtechnik.&amp;#039;&amp;#039; 2. überarbeitete u. erweiterte Auflage. Springer, Berlin 2004, ISBN 978-3-540-20542-5 (Übersicht zur Entwicklung und Praxis der Reinraumtechnik).&lt;br /&gt;
* Lothar Gail, Udo Gommel, Horst Weißsieker (Hrsg.): &amp;#039;&amp;#039;Projektplanung Reinraumtechnik.&amp;#039;&amp;#039; VDE Verlag, 2009, ISBN 978-3-7785-4004-6 (Reinraumtechnisches Praxiswissen).&lt;br /&gt;
* Erwin Memmert: &amp;#039;&amp;#039;Reinraumtechnik: Normen-Handbuch.&amp;#039;&amp;#039; Verlag Beuth, 2008, ISBN 978-3-410-16920-8 (Normenhandbuch zum Thema Reinräume).&lt;br /&gt;
* Win Labuda: &amp;#039;&amp;#039;Reinraum-Verbrauchsmaterial – Aspekte, Simulation, Argumente.&amp;#039;&amp;#039; In: &amp;#039;&amp;#039;ReinRaumTechnik.&amp;#039;&amp;#039; Sonderausgabe, Jg. 19, Nr. 1, 2017 ({{webarchiv|url=http://www.cleanboss.com/Sonderheft_ReinRaumtechnik_Januar_2017_-_03.02.17.pdf|text=Volltext|wayback=20180918193842|format=PDF}}).&lt;br /&gt;
* Win Labuda: &amp;#039;&amp;#039;Zur Geschichte des Reinen Arbeitens&amp;#039;&amp;#039;. In: &amp;#039;&amp;#039;ReinRaumTechnik.&amp;#039;&amp;#039; Jg. 20, Nr. 03, 2018, {{ISSN|1439-4251}} ([http://microimage.de/Cartopan/Aufsatz%20DE%20u.%20EN/Zur%20Geschichte%20des%20Reinen%20Arbeitens%20D.pdf microimage.de]).&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Weblinks ==&lt;br /&gt;
{{Commonscat|Cleanrooms|Reinraum}}&lt;br /&gt;
{{Wiktionary}}&lt;br /&gt;
* &amp;#039;&amp;#039;[https://www.youtube.com/watch?v=PecKlm6VutU Get Inside an Intel 45&amp;amp;nbsp;nm Chip Factory]&amp;#039;&amp;#039; Channel Intel, YouTube, 7. November 2007, abgerufen am 20. Dezember 2009 (Video zu Intels Fab32; Das Video zeigt unter anderem Bilder aus dem Reinraumbereich einer modernen Halbleiterproduktionsstätte für Mikroprozessoren).&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Einzelnachweise ==&lt;br /&gt;
&amp;lt;references /&amp;gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Halbleitertechnik]]&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Filtration]]&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Typ von Innenräumen]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>imported&gt;Georg Hügler</name></author>
	</entry>
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