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	<title>PMOS - Versionsgeschichte</title>
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	<updated>2026-05-24T12:12:51Z</updated>
	<subtitle>Versionsgeschichte dieser Seite in Wikipedia (Deutsch) – Lokale Kopie</subtitle>
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		<id>https://wiki-de.moshellshocker.dns64.de/index.php?title=PMOS&amp;diff=499529&amp;oldid=prev</id>
		<title>imported&gt;Wosch21149: /* Technik */ Verwirrenden Satz entfernt. Es geht um unterschiedlich stark dotierte Regionen</title>
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		<updated>2024-03-06T23:39:30Z</updated>

		<summary type="html">&lt;p&gt;&lt;span class=&quot;autocomment&quot;&gt;Technik: &lt;/span&gt; Verwirrenden Satz entfernt. Es geht um unterschiedlich stark dotierte Regionen&lt;/p&gt;
&lt;p&gt;&lt;b&gt;Neue Seite&lt;/b&gt;&lt;/p&gt;&lt;div&gt;{{Dieser Artikel|befasst sich mit der Abkürzung für &amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;p&amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;-type &amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;m&amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;etal-&amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;o&amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;xide &amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;s&amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;emiconductor; zu anderen Bedeutungen von „PMOs“ siehe auch [[PMO]].}}&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
[[Datei:PMOS NOT.png|mini|rechts|[[Nicht-Gatter]] in PMOS-Technik]]&lt;br /&gt;
Die Abkürzung &amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;PMOS&amp;#039;&amp;#039;&amp;#039; (bzw. PMOSFET und p-Kanal-MOSFET) steht für englisch „{{lang|en|&amp;#039;&amp;#039;p-type metal-oxide semiconductor&amp;#039;&amp;#039;}}“ (deutsch: &amp;#039;&amp;#039;p-Kanal-Metall-Oxid-Halbleiter&amp;#039;&amp;#039;) und bezeichnet in der [[Mikroelektronik]] einen [[Metall-Oxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor]] (MOSFET), bei dem positiv geladene Ladungsträger (Löcher, [[Defektelektron]]en) die Leitung des elektrischen Stroms im [[Kanal]] übernehmen.&lt;br /&gt;
Schaltkreise, die neben Widerständen nur p-Kanal-MOSFETs als Transistoren nutzen, werden als PMOS-Logik bezeichnet. Sie stellt das Komplement zur [[NMOS-Logik]] ({{lang|en|&amp;#039;&amp;#039;n-channel metal-oxide-semiconductor&amp;#039;&amp;#039;}}) dar, die [[Elektron]]en zur Leitung des elektrischen Stroms im Kanal nutzt. Schaltkreise beider Art wurden und werden mit der sogenannten [[Silizium-Gate-Technik]] (auch PMOS-Prozess) hergestellt.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Technik ==&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Die dominierende [[Ladungsträger (Physik)|Ladungsträgerart]], auf deren Bewegung die Leitfähigkeit beruht, nennt man Majoritätsladungsträger.&lt;br /&gt;
Die Majoritätsladungsträger sind beim PMOSFET Löcher, auch [[Defektelektron]]en genannt. Beim NMOSFET sind es Elektronen.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Da Defektelektronen in [[Silicium]] eine rund dreimal geringere effektive [[Ladungsträgerbeweglichkeit]] als Elektronen aufweisen, haben PMOS-Transistoren in Silicium bei gleicher Dimensionierung eine ungefähr um diesen Faktor geringere Schaltgeschwindigkeit als NMOS-Transistoren.&amp;lt;ref name=&amp;quot;Kesel2006&amp;quot; /&amp;gt; Die Schaltkreise, die nur PMOS-Transistoren nutzen, werden auch unter dem Begriff PMOS-Technik zusammengefasst. Obwohl PMOS-Schaltungen zunächst einfacher herzustellen waren, wurden sie wegen dieses Nachteils bereits Mitte der 1970er Jahre durch die NMOS-Technik verdrängt.&amp;lt;ref&amp;gt;vgl. {{Literatur | Autor = Wadhwa | Titel = Microprocessor 8085: Architecture, Programming, and Interfacing | Verlag = PHI Learning Pvt. Ltd. | Jahr = 2010 | ISBN = 978-81-203-4013-8|Seiten=9|Online = {{Google Buch|BuchID=JX-Hs592smEC|Seite=9}}}}&amp;lt;/ref&amp;gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Da sowohl bei der reinen PMOS-Technik als auch bei der reinen NMOS-Technik die aktiven Transistoren mit einem passiven [[Elektrischer Widerstand|Lastwiderstand]] arbeiten, fließt im Normalbetrieb ein Strom, der für die Gesamtschaltung einen nicht zu vernachlässigenden Leistungsaufwand bewirkt. Dieser kann deutlich verringert werden, wenn die Lastwiderstände durch aktive, geschaltete Transistoren der jeweils komplementären Technologie ersetzt werden. Dieses ist bei der heute dominierenden [[CMOS]]-Technik ({{lang|en|&amp;#039;&amp;#039;complementary metal-oxide-semiconductor&amp;#039;&amp;#039;}}, deutsch &amp;#039;&amp;#039;komplementärer Metall-Oxid-Halbleiter&amp;#039;&amp;#039;), einer Schaltungskombination aus PMOS- und NMOS-Transistoren, verwirklicht.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Da für den gemeinsamen Einsatz in einer CMOS-Schaltung die PMOS- und NMOS-Transistoren ähnliche elektrische Eigenschaften aufweisen sollten, sind die PMOS-Transistoren in der Regel anders dimensioniert, beispielsweise haben sie eine größere Transistorweite. In modernen Schaltkreisen weisen PMOS-Transistoren noch weitere Unterschiede zu NMOS-Transistoren auf, so wird die Ladungsträgerbeweglichkeit durch eine Verspannung des Kanalmaterials erhöht (vgl. [[Gestrecktes Silizium]]) oder der Gate-Aufbau wird für jede Transistorart optimiert (Material, Dotierung usw.). Letzteres hat vor allem mit der Einführung der [[High-k+Metal-Gate-Technik]] an Bedeutung gewonnen.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Anwendungen ==&lt;br /&gt;
[[Datei:National Semiconductor SCMP-die.jpg|mini|Chip-Foto des PMOS [[National Semiconductor SC/MP|SC/MP]] von National Semiconductor, 1976]]&lt;br /&gt;
PMOS-Technik war die erste wirtschaftlich produzierbare MOS-IC-Technik. So wurden beispielsweise der [[Intel 4004]], der erste in Serie hergestellte [[Mikroprozessor]], in PMOS-Technik hergestellt. Viele Produkte wurden später [[Kompatibilität (Technik)|funktionskompatibel]] in der schnelleren NMOS-Technik hergestellt. Beispiele dafür sind [[UART]]s, [[Tastatur]]controller oder der Mikroprozessor [[National Semiconductor SC/MP|SC/MP]] von [[National Semiconductor]]. Wegen der günstigen Herstellungskosten&amp;lt;!--Warum?--&amp;gt; konnten sich PMOS-Produkte längere Zeit in Anwendungen wie [[Taschenrechner]]n, Fernbedienungen oder Uhren-Schaltungen halten, bei denen es nicht auf höhere Geschwindigkeit oder geringen Stromverbrauch ankam.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Einzelnachweise ==&lt;br /&gt;
&amp;lt;references&amp;gt;&lt;br /&gt;
&amp;lt;ref name=&amp;quot;Kesel2006&amp;quot;&amp;gt;{{Literatur | Autor = Frank Kesel, Ruben Bartholomä | Titel = Entwurf von digitalen Schaltungen und Systemen mit HDLs und FPGAs | Verlag = Oldenbourg Verlag | Jahr = 2006 | ISBN = 978-3-486-57556-9|Seiten=3, 131–132}}&lt;br /&gt;
&amp;lt;/ref&amp;gt;&lt;br /&gt;
&amp;lt;/references&amp;gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Digitale Schaltungstechnik]]&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Abkürzung]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>imported&gt;Wosch21149</name></author>
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