95.222.82.97: Erhalten betont hier unnötig Hersteller, Auftraggeber, Abnehmer, auch wenn sie im Passiv nicht Subjekt sind.

2025-05-13T13:41:58Z

Erhalten betont hier unnötig Hersteller, Auftraggeber, Abnehmer, auch wenn sie im Passiv nicht Subjekt sind.

Neue Seite

'''Novolake''' (fälschlicherweise oft '''Novolacke''') sind [[Phenolharz]]e mit einem [[Formaldehyd]]-[[Phenol]]-Verhältnis kleiner als 1:1. Sie entstehen durch saure Kondensation der Edukte. Novolake sind [[thermoplast]]isch und können durch Zusätze von Formaldehydspendern wie z. B. [[Hexamethylentetramin]] gehärtet werden.<ref>{{Literatur |Autor=Peter Kurzweil |Titel=Chemie |Auflage=10 |Verlag=Springer Fachmedien |Ort=Wiesbaden |Datum=2015 |ISBN=978-3-658-08660-2 |Seiten=254 |DOI=10.1007/978-3-658-08660-2}}</ref> Dies ergibt dann unschmelzbare [[Phenoplast]]e.

[[Datei:novolak.png|mini|Strukturformel eines Novolaks]]

Kombiniert mit fotosensitiven Substanzen, wie beispielsweise ''Diazonaphthochinon'', werden Novolake in der [[Mikroelektronik]] und [[Mikromechanik]] zur [[Fotolithografie (Halbleitertechnik)|Fotolithografie]] als [[Fotolack]] eingesetzt. Nach Belichtung und Entwicklung bleibt eine strukturierte Lackoberfläche übrig, die das [[Substrat (Materialwissenschaft)|Substrat]] vor dem nächsten Prozessschritt (z. B. [[Ionenimplantation]], galvanisches Aufwachsen von Metall, [[thermische Oxidation]], Ätzen etc.) schützen.

Novolake werden in der Regel durch einen [[Rotationsbeschichtung|Spin Coater]] auf ein Substrat aufgeschleudert und es können Resistdicken bis hin zu einigen 10 µm pro Belackungsschritt erreicht werden. Für größere [[Schichtdicke (Beschichten)|Schichtdicken]] empfiehlt sich [[Polymethylmethacrylat|PMMA]].

== Weblinks ==
* Douglas R. Robello: {{Webarchiv |url=http://chem.chem.rochester.edu/~chem421/polymod2.htm |wayback=20140326103947 |text=''The Chemistry of Photoresists''}}. In: ''Chem 421: Introduction to Polymer Chemistry.'' 2002, abgerufen am 21. Mai 2010.
* Heinrich Kirchauer: ''[https://www.iue.tuwien.ac.at/phd/kirchauer/node30.html Composition of DQN Resist].'' Institute for Microelectronics, TU Wien, 17. April 1997, abgerufen am 21. Mai 2010.

== Einzelnachweise ==
<references />

[[Kategorie:Lithografie (Halbleitertechnik)]]
[[Kategorie:Kunstharz]]
[[Kategorie:Thermoplast]]

Novolak - Versionsgeschichte

95.222.82.97: Erhalten betont hier unnötig Hersteller, Auftraggeber, Abnehmer, auch wenn sie im Passiv nicht Subjekt sind.