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2019-07-01T15:33:26Z

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[[Datei:Notch and Flat 01.jpg|mini|Foto einer Notch eines 200-mm-Wafers (unten), im Vergleich zum Flat eines 150-mm-Wafers (oben).<br /><small>''Als Maßstab ein Streichholzkopf''</small>]]

Eine {{lang|en|'''Notch'''}} ([[Deutsche Sprache|dt.]] ‚Kerbe‘) ist eine seitliche Einkerbung in einem [[Wafer]], die zur genauen Positionierung auf einer Produktionsanlage für Halbleiter verwendet wird. Dazu fahren [[Laser]] oder [[Lichtschranke]]n über den Rand der Scheibe und ermitteln so die genaue Lage der Notch. Somit kann die genaue Orientierung des [[Einkristall|Kristallgitters]] festgestellt werden.

Notches werden ab einem Waferdurchmesser von 200 mm und größer eingesetzt. Sie verbrauchen weniger Material als die bei kleineren Durchmessern genutzten sogenannten [[Flat (Wafer)|Flats]] zur Positionierung.

Die Notches entstehen in [[Computerized Numerical Control|CNC]]-gesteuerten [[Schleifmaschine]]n. Die Lage wird in [[Grad (Winkel)|Grad]] angegeben und wird von einem [[Röntgengerät]] ermittelt, das die Lage des [[Kristallstruktur|Kristallgitters]] auf [[Bogensekunde|Sekunden]] genau ermittelt. Dann wird die Notch gesetzt.

== Weblinks ==
* [http://web.it.nctu.edu.tw/~thhou/09-dee4515/C-Wafer%20Manufacturing.pdf Wafer Manufacturing] (abgerufen am 19. Oktober 2015)
* [http://www.semi.org/cms/groups/public/documents/web_content/ctr_038709.pdf Lessons Learned Applicable to SEMI 3D Standards] (abgerufen am 19. Oktober 2015)

[[Kategorie:Halbleitertechnik]]

[[ro:Plăcuță semiconductoare#Semne de indicare a orientării]]

Notch (Wafer) - Versionsgeschichte

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