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	<title>Lichtbogenverdampfen - Versionsgeschichte</title>
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	<updated>2026-06-08T10:37:50Z</updated>
	<subtitle>Versionsgeschichte dieser Seite in Wikipedia (Deutsch) – Lokale Kopie</subtitle>
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		<title>imported&gt;Lila Pikmin: /* growthexperiments-addlink-summary-summary:3|0|0 */</title>
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		<summary type="html">&lt;p&gt;&lt;span class=&quot;autocomment&quot;&gt;growthexperiments-addlink-summary-summary:3|0|0&lt;/span&gt;&lt;/p&gt;
&lt;p&gt;&lt;b&gt;Neue Seite&lt;/b&gt;&lt;/p&gt;&lt;div&gt;&amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;Lichtbogenverdampfen&amp;#039;&amp;#039;&amp;#039; oder Arc-PVD (auch {{lang|en|&amp;#039;&amp;#039;arc evaporation&amp;#039;&amp;#039;}}, von {{enS|&amp;#039;&amp;#039;arc&amp;#039;&amp;#039;}} ‚Bogen‘) ist ein Beschichtungsverfahren aus der Gruppe der [[Physikalische Gasphasenabscheidung|physikalischen Gasphasenabscheidung]] (PVD), genauer gesagt ein [[Thermisches Verdampfen|Verdampfungsverfahren]].&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
[[Datei:Lichtbogenverdampfung.png|mini|Im linken Bild ist der Lichtbogen zwischen Zünder und Kathodenmaterial, sowie die Bildung eines Ectons zu sehen. Im rechten Bild die entstehende Plasmafackel mit den emittierten Teilchen.]]&lt;br /&gt;
Bei diesem Verfahren brennt zwischen der Kammer und dem auf negativem Potenzial liegenden [[Target (Physik)|Target]] ein [[Lichtbogen]], der das später z.&amp;amp;nbsp;B. auf ein [[Werkstück]] (dem [[Substrat (Materialwissenschaft)|Substrat]]) aufzubringende Targetmaterial schmilzt und verdampft. Das Target wirkt als Kathode, die Kammerwand der [[Vakuumkammer]] oder eine definierte Elektrode als Anode. Dabei wird ein großer Teil (bis zu 90 %) des verdampften Materials [[Ionisation|ionisiert]]. Der Materialdampf (Targetmaterial) breitet sich ähnlich wie beim [[Thermisches Verdampfen|thermischen Verdampfen]] radial vom Target aus. Da an das Substrat zusätzlich ein negatives Potenzial gelegt wird, wird der ionisierte Materialdampf zusätzlich zum Substrat hin beschleunigt. An der Substrat[[Grenzfläche|oberfläche]] kondensiert der Materialdampf. Durch die hohen Ionisationsanteile kann durch entsprechende Spannungen am Substrat und Target eine große [[kinetische Energie]] in den Metalldampf eingebracht werden, so dass am Substrat ein mehr oder weniger starker [[Sputtern|Sputter]]-Effekt erreicht werden kann. Dies wird unter anderem ausgenutzt, um die Eigenschaften (Schichthaftung&amp;lt;ref&amp;gt;{{Literatur|Autor=W. König, R. Fritsch, O. Knotek, G. Krämer|Titel=Arc-PVD-Beschichtung von Hartmetallen und Analyse des funktionellen Verhaltens beim Zerspanen im unterbrochenen Schnitt|Sammelwerk=Materialwissenschaft und Werkstofftechnik|Band=24|Nummer=3–4|Datum=2004|Seiten=131–141|DOI=10.1002/mawe.19930240312}}&amp;lt;/ref&amp;gt;, Dichte, Zusammensetzung usw.) der abgeschiedenen Schicht zu beeinflussen.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Literatur ==&lt;br /&gt;
* {{Literatur|Autor=Donald M. Mattox|Titel=Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing: Film Formation, Adhesion, Surface Preparation and Contamination Control|Verlag=Noyes Pubn|Datum=1998|ISBN=0-8155-1422-0}}&lt;br /&gt;
* {{Literatur|Autor=André Anders|Titel=Cathodic Arcs - From Fractal Spots to Energetic Condensation|Verlag=Springer|Datum=2008|ISBN=978-0-387-79107-4}}&lt;br /&gt;
* {{Literatur | Autor = André Anders | Titel = The evolution of ion charge states in cathodic vacuum arc plasmas: a review | Sammelwerk = Plasma Sources Science and Technology | Band = 21 | Nummer = 3| Datum = 2012-06-01 | Seiten = 035014| Online= [https://escholarship.org/uc/item/2tm4n5w2 Entwurfsversion]| DOI= 10.1088/0963-0252/21/3/035014}}&lt;br /&gt;
== Einzelnachweise ==&lt;br /&gt;
&amp;lt;references /&amp;gt;&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Verfahren der physikalischen Gasphasenabscheidung]]&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Oberflächenphysik]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>imported&gt;Lila Pikmin</name></author>
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