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	<title>Formierung - Versionsgeschichte</title>
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	<subtitle>Versionsgeschichte dieser Seite in Wikipedia (Deutsch) – Lokale Kopie</subtitle>
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		<title>93.207.22.149: R, Gr</title>
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		<summary type="html">&lt;p&gt;R, Gr&lt;/p&gt;
&lt;p&gt;&lt;b&gt;Neue Seite&lt;/b&gt;&lt;/p&gt;&lt;div&gt;{{Begriffsklärungshinweis|Zur Formierung in der Archivsprache siehe [[Akte#Formierung]]}}&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
{{Belege}}&lt;br /&gt;
Die &amp;#039;&amp;#039;&amp;#039;Formierung&amp;#039;&amp;#039;&amp;#039; ist eine Nachbehandlung bzw. Oberflächennachbehandlung in der [[Oberflächentechnik]]. Dabei wird durch elektrische Einwirkung eine Oberflächenschicht erzeugt oder verändert und so beispielsweise bei elektronischen Bauelementen die Funktionsfähigkeit herbeigeführt. Typische Beispiele sind [[Oxidkathode]]n und dielektrische Schichten in [[Elektrolytkondensator|Elektrolytkondensatoren]].&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
Weiterhin wird die Veränderung eines [[Halbleiterübergang]]es während der Halbleitererstmessung als Formierung bezeichnet. Dabei wird durch elektrische Einwirkung eine Grenzflächenänderung herbeigeführt, die die Funktionsfähigkeit herbeiführt oder verbessert. Typisches Beispiel ist die Verringerung des [[Leckstrom]]es einer [[Sperrschicht]] durch Einprägen eines hohen Sperrstromes. Hier ist dies im Allgemeinen ein unerwünschtes Verhalten.&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
== Siehe auch ==&lt;br /&gt;
* [[Anodische Oxidation]]&lt;br /&gt;
&lt;br /&gt;
[[Kategorie:Dünnschichttechnik]]&lt;/div&gt;</summary>
		<author><name>93.207.22.149</name></author>
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