imported>Der-Wir-Ing: Änderungen von ~2026-83140-6 (Diskussion) wurden auf die letzte Version von Aka zurückgesetzt: WP:KORR

2026-02-07T01:06:04Z

Änderungen von ~2026-83140-6 (Diskussion) wurden auf die letzte Version von Aka zurückgesetzt: WP:KORR

Neue Seite

{{Infobox_Unternehmen
| Name = Carl Zeiss SMT GmbH
| Logo = Zeiss_logo.svg
| Unternehmensform = [[Gesellschaft mit beschränkter Haftung (Deutschland)|GmbH]]
| ISIN =
| Gründungsdatum = 2001
| Auflösungsdatum =
| Auflösungsgrund =
| Sitz = [[Oberkochen]], [[Deutschland]]
| Leitung = * Frank Rohmund
* Torsten Reitze
| Mitarbeiterzahl =
| Umsatz = 5,055 Mrd. [[Euro|€]] (+23 %) ''(2024/25)''<ref>{{Internetquelle |url=https://www.zeiss.com/geschaeftsbericht/home.html |titel=Geschäftsbericht 2024/25 ZEISS Gruppe, S. 30 |hrsg=Carl Zeiss AG |abruf=2026-01-22}}</ref><ref>{{Internetquelle |url=https://www.zeiss.com/geschaeftsbericht/home.html|titel=ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology - "Über uns"|hrsg=Carl Zeiss SMT GmbH |abruf=2026-01-22}}</ref>
| Stand =
| Branche = Equipment für die Halbleiterindustrie
| Homepage = www.zeiss.de/smt
}}

Die '''Carl Zeiss SMT GmbH''' (Semiconductor Manufacturing Technology) bildet den Unternehmensbereich [[Halbleitertechnik]] der [[Carl Zeiss AG]] und entwickelt und produziert Ausrüstungen für die Fertigung von [[Mikrochip]]s. Das Unternehmen befand sich bis 2016 zu 100 Prozent im Besitz der Carl Zeiss AG. Im November 2016 erwarb das niederländische Unternehmen [[ASML]] für rund eine Milliarde Euro 24,9 Prozent der Carl Zeiss SMT GmbH.

Der Unternehmensbereich hat seinen Hauptsitz in der schwäbischen Stadt [[Oberkochen]]. Weitere Standorte befinden sich in [[Jena]], [[Wetzlar]], [[Roßdorf (bei Darmstadt)|Roßdorf]], [[Aachen]], [[Coswig (Sachsen)|Coswig]], [[Zürich]] (CH), [[Dublin (Ohio)|Dublin]] (USA) und Bar Lev (Israel). Insgesamt sind mehr als 9.349 Mitarbeitende<ref>{{Internetquelle |url=https://www.zeiss.com/geschaeftsbericht/home.html |titel=Geschäftsbericht 2024/25 ZEISS Gruppe |hrsg=Carl Zeiss AG |abruf=2026-01-22}}</ref><ref name="ueber-uns">{{Internetquelle |url=https://www.zeiss.de/semiconductor-manufacturing-technology/ueber-uns.html|titel=ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology - "Über uns"|hrsg=Carl Zeiss SMT GmbH |abruf=2026-01-22}}</ref> an diesen neun Standorten beschäftigt.

== Produktbereiche ==
=== Halbleiterfertigungs-Optik ===
Dieser Zeiss Unternehmensbereich entwickelt und fertigt Optiken für die Halbleiterfertigung. Kerngeschäft sind [[Fotolithografie (Halbleitertechnik)|Lithografie-Optiken]], welche das Herzstück eines Wafer-Scanners bilden. Die Entwicklung und Fertigung der [[Projektion (Optik)|Projektionsoptik]] sowie die Entwicklung der zugehörigen Beleuchtungs-Systeme finden am Standort [[Oberkochen]] statt, die Fertigung der Beleuchtungs-Systeme auch am Standort [[Wetzlar]]. Neben den Lithografie-Optiken hat sich der Unternehmensbereich auf zahlreiche weitere Optiken spezialisiert, so unter anderem auf Optikkomponenten für Laser, die als Lichtquelle für lithografische Systeme genutzt werden.

Für eine neue Form der Chip-Herstellung hat Carl Zeiss SMT zusammen mit [[Trumpf (Unternehmen)|Trumpf]] und [[ASML]] ein Belichtersystem entwickelt, das mithilfe von [[EUV-Lithografie|EUV-Lithographie]] Chips belichtet. Für diese Entwicklung gewann am 25. November 2020 die Carl Zeiss SMT GmbH zusammen mit TRUMPF Lasersystems for Semiconductors Manufacturing GmbH und dem an der Entwicklung beteiligten [[Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik]] (IOF) den [[Deutscher Zukunftspreis|Deutschen Zukunftspreis]], der vom Bundespräsidenten jährlich verliehen wird.<ref>[https://www.deutscher-zukunftspreis.de/de/team-1-2020 deutscher-zukunftspreis.de]</ref>

Mit der Weiterentwicklung des EUV-Lithographie-Verfahrens zur High-NA-EUV-Lithographie befähigt die Carl Zeiss SMT die Halbleiterindustrie, die nächste Mikrochip-Generation zu realisieren: Bei der High-NA-EUV-Lithographie kann Licht aus einem größeren Winkelbereich für die Abbildung genutzt und so bis zu dreimal mehr Strukturen auf einem Mikrochip abgebildet werden.<ref>{{Internetquelle |url=https://www.zeiss.de/semiconductor-manufacturing-technology/inspiring-technology/high-na-euv-lithographie.html|titel=High-NA-EUV-Lithographie|hrsg=Carl Zeiss SMT GmbH |abruf=2025-01-08}}</ref>

=== Photomaskensysteme ===
Dieser Produktbereich entwickelt und fertigt Systeme, die Defekte auf Photomasken analysieren, reparieren sowie spezifische Maskeneigenschaften vermessen und optimieren. Auf der [[Fotomaske|Photomaske]] befinden sich alle Strukturinformationen, die mittels Licht auf dem Wafer abgebildet werden.

=== Prozesskontrolle für Halbleiterbauelemente ===
Dieser Produktbereich entwickelt und fertigt Prozesskontroll-Lösungen, um relevante Informationen (wie Mikrochip-Volumen) für die Logik- und Speicherchipfertigung zu erhalten und zu analysieren. Damit wird die Halbleiterindustrie befähigt, ihre Herausforderungen für die nächsten Bauelementgenerationen zu bewältigen.

== Geschichte ==
1968 lieferte Carl Zeiss erstmals die Optik für einen Schaltkreisdrucker.<ref>K. Hennings: ''Technologische Probleme der Mikrominiaturisierung (Planartechnik)'' In: technica, 1967, S. 2337–2341.</ref> Rund neun Jahre später wurde eine Optik von Carl Zeiss Teil des weltweit ersten Vorgängers eines modernen [[Stepper (Halbleitertechnik)|Wafersteppers]] der Firma David Mann (später GCA).<ref>Prosenjit Rai-Choudhury (Hrsg.): ''Microlithography'' (= ''Handbook of Microlithography, Micromachining, and Microfabrication.'' Volume 1.) SPIE Press 1997, S. 83</ref>

1983 wurde die erste Lithografie-Optik von Carl Zeiss in einem [[Stepper (Halbleitertechnik)|Waferstepper]] von [[Philips]] eingesetzt – knapp zehn Jahre später gingen Carl Zeiss und die Philips-Ausgründung [[ASML]] eine strategische Partnerschaft ein.

1994 wurde der Unternehmensbereich Halbleitertechnik von [[Carl Zeiss AG|Carl Zeiss]] gegründet. Carl Zeiss SMT GmbH und ihre Tochterunternehmen Carl Zeiss Laser Optics GmbH und Carl Zeiss SMS GmbH folgten 2001. Im selben Jahr begann auch der Bau für das [[Halbleitertechnik]]-Werk von Carl Zeiss im Interkommunalen Gewerbegebiet [[Oberkochen]] – [[Königsbronn]], der 2006 abgeschlossen wurde.<ref>Stephan Paetrow: ''... was zusammen gehört. 20 Jahre Wiedervereinigung von Carl Zeiss.'' Hanseatischer Merkur, Hamburg 2011, ISBN 978-3-922857-51-8, S. 111 ff.</ref>

2010 erreichte der Unternehmensbereich erstmals mehr als eine Milliarde Euro Umsatz.<ref>{{Internetquelle |url=https://www.zeiss.de/content/dam/Corporate/pressandmedia/downloads/press-conferences/201_Jahresabschluss_ger.pdf |titel=Jahresabschluss Pressekonferenz Carl Zeiss AG Stuttgart, 2. Dezember 2010 |hrsg=Carl Zeiss AG |datum=2010-12-02 |sprache=de |abruf=2023-03-29}}</ref> Mit Wirkung zum Oktober 2014 wurden die Tochterunternehmen Carl Zeiss Laser Optics GmbH und Carl Zeiss SMS GmbH auf die Carl Zeiss SMT GmbH verschmolzen.

== Weblinks ==
* [http://www.zeiss.de/ ZEISS Gruppe]
* [https://www.zeiss.de/semiconductor-manufacturing-technology/home.html Carl Zeiss SMT GmbH]
* [http://www.carl-zeiss-stiftung.de Carl-Zeiss-Stiftung]

== Einzelnachweise ==
<references />

{{Coordinate|NS=48/47/02/N|EW=10/06/19/E|type=landmark|name=Carl Zeiss SMT|region=DE-BW}}
{{Normdaten|TYP=k|GND=6058662-X|VIAF=158115357}}

[[Kategorie:Zeiss]]
[[Kategorie:Produzierendes Unternehmen (Ostalbkreis)]]
[[Kategorie:Carl Zeiß als Namensgeber|SMT]]
[[Kategorie:Oberkochen]]
[[Kategorie:Unternehmensgründung 2001]]

Carl Zeiss SMT - Versionsgeschichte

imported>Der-Wir-Ing: Änderungen von ~2026-83140-6 (Diskussion) wurden auf die letzte Version von Aka zurückgesetzt: WP:KORR